第1034节(3/3)

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光刻机,如果能拿到浸润式光刻机重要的技术资料和专利,别的不敢保证,中微半导体研发的时长可以提前,也许三年,也许五年,就可以有生产45nm,甚至是28nm的浸润式光刻机,我们自己的光刻机!”

    陆飞把拳头攥得紧紧的。

    这一嗓子,把工信部的领导们的情绪也给调动了,一个个热血澎湃,副部长笑道:

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